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Ausstattung des Fraunhofer ISIT





Das ISIT verfügt für seine Aktivitäten über eine 150/200 mm Silizium-Technologielinie auf

2000 m² Reinraumfläche (Reinraumklasse 1).

Das Institut betreibt mit der Firma Vishay Semiconductor Itzehoe GmbH eine professionelle Halbleiterproduktionslinie mit allen erforderlichen Zertifizierungen. Diese Linie wird sowohl für die Produktion von mikroelektronischen Bauelementen (PowerMOS) und Mikrosystemen als auch für FuE-Projekte für neue Bauelemente und technologische Prozesse genutzt.

 

Für spezifische Prozesse der Mikrosystem- und der Multichip-Modultechnik stehen weitere 450 m² Reinraumfläche (Klasse 100) und für das chemisch-mechanische Polieren (CMP) und die Post-CMP Reinigung 200 m² Reinraumlabore (Klasse 10 - 100) mit entsprechendem Equipment zur Verfügung.

 

Zusätzlich sind am ISIT 1500 m² Labore eingerichtet. Sie werden für die Entwicklung von chemischen, biologischen und thermischen Prozessen, für die elektrische und mechanische Charakterisierung von Bauelementen sowie für die Aufbau- und Verbindungstechnik genutzt. Darüber hinaus verfügt das ISIT über eine Pilot-Fertigungslinie für Lithium-Polymer-Akkumulatoren für Kapazitäten im Bereich von 600 – 1000 mAh.




Letzte Änderung: 26.12.2009

© Gesellschaft für Technologieförderung Itzehoe mbH

Chronologie

 

1990 Fraunhofer ISIT Gründung in Berlin
1992 Entscheidung für Neubau in Itzehoe
1995 Inbetriebnahme des Instituts und Umzug von 100 wissenschaftlichen Mitarbeitern nach Itzehoe
1996 Kooperation mit TEMIC
1997 Vishay übernimmt TEMIC
2004 Errichtung der Vishay Epitaxie-Linie
2004 Entscheidung der Umstellung von 150 auf 200 mm Wafer für PowerMOS Fertigung